[데일리팜=차지현 기자] 지아이이노베이션 관계사 지아이셀은 자사가 보유한 고순도·고효율 자연살해(NK) 세포 배양 기술에 대한 미국 특허 등록이 결정됐다고 29일 밝혔다.

이번 특허는 지아이이노베이션이 개발 중인 GI-101/GI-102를 활용한 NK세포 배양용 조성물과 제조 방법에 관한 것이다. 이 기술을 활용해 NK세포를 배양하면 세포 증식 능력을 향상하고 CD16, NKp46 등 활성 수용체 발현률이 증가한다는 게 회사 측 설명이다. 암세포를 직접 공격하는 퍼포린(Perforin)과 그랜자임 B(Granzyme B)의 발현과 분비도 촉진된다.

지아이셀은 이 배양 기술을 활용해 차세대 NK세포치료제 T.O.P. NK(GIC-102)를 개발하고 있으며, 현재 혈액암과 고형암을 대상으로 임상 2a상을 진행 중이다. T.O.P. NK는 동종유래(Allogeneic) 기반 기성품(off-the-shelf) 형태로 상용화 가능한 차세대 면역세포치료제다.

앞서 지아이셀은 NK세포 배양 기술에 대해 한국, 유럽, 일본을 포함한 글로벌 8개국에서 특허 등록을 받은 바 있다. 이번 미국 특허 등록 결정을 통해 독자적인 NK세포 대량배양 기술을 기반으로 글로벌 진출 전략을 적극 추진한다는 계획이다.

지아이셀 최고임상과학고문인 장명호 박사는 "이번 미국 특허 등록은 지아이셀의 젊고 건강한 공여자로부터 유래된 NK세포의 배양 기술이 세계적으로 경쟁력을 인정받은 쾌거"라며 "GI-102와 T.O.P. NK 병용 요법을 통해 항노화 영역까지 적응증을 확장하고, 글로벌 시장에서 독보적인 NK세포치료제를 선도해 나가겠다"고 했다.